隨著光電了信息產業(yè)的快速發(fā)展,要求光電了元件基片的藍寶石、單晶硅等不僅具有超光滑的加工表面,而且具有極高的表面精度。采用雙面拋光加工的電了晶片可獲得較高加工效率及優(yōu)良的加工表面平整度與光潔度,但加工設備復雜,加工工藝要求也極為嚴格。
深圳市海德精密研磨機器制造有限公司專業(yè)研發(fā)雙面研磨機、高精密雙面研磨機、大型雙面研磨機,可以進行藍寶石晶片研磨、硅片拋光,海德?lián)碛谐墒斓纳a工藝,先進生產設備,銷售數(shù)量大,范圍廣,質量好,性能好,是廣大企業(yè),工廠,貿易商的首選供應商;公司技術力量雄厚,生產工藝精湛,檢測手段先進,售后服務周到。購買高精密減薄機認準深圳海德,提供終生維護!高精密雙面研磨機產品銷售網絡遍布全國各地,歡迎來電咨詢!
該機廣泛用于手機玻璃、光學玻璃晶片、LED藍寶石襯底、陶瓷板、活塞環(huán)、閥片、釹鐵硼、鐵氧體、鈮酸體、鈮酸鋰、鉭酸鋰、PTC熱敏電阻、光盤基片、陶瓷密封環(huán)、硬質合金、密封環(huán)、鎢鋼片、等各種材料的雙面研磨拋光。
本系列研磨機為精密磨削設備,上、下研磨盤作相反方向轉動,工件在載體內作既公轉雙自轉的游星運動.磨削阻力小不損傷工件,而且兩面磨削均勻,生產效率高.
高精密大型雙面研磨機特點:
1.采用日本SMC氣動元件,分段精密加壓控制,適合粗磨、中磨、精磨、精拋等工藝要求。
2.系列研磨機采用四段壓力,即輕壓、中壓、重壓、修研的運行過程。
3.采用日本NSK主軸軸承、確保機器的精密性及耐用性。
4.上磨盤快升、快降、緩升、緩降集中于一個手柄,操作更方便。
5.獨特的安全鎖緊機構,防止意外斷氣、斷電而“掉盤”傷人的意外發(fā)生。
6.可根據(jù)用戶要求增加光柵厚度控制系統(tǒng),加工后的產品厚度公差可控制在0.002mm范圍內;平面度公差可控制在0.001mm范圍內.
7.齒圈及擋水盤半動升降系統(tǒng),既方便取放工件及嚙合齒輪,又滿足改變游輪嚙合高低位置的要求。
8.整機的運行采用獨立電機拖動,使上盤、下盤、中心輪、速度達到最佳配比,游輪實現(xiàn)正轉、反轉、滿足修盤工藝需求。
文章關健字:藍寶石晶片研磨、硅片拋光、雙面研磨機
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