雙面拋光機廠家與您分享雙面拋光的工藝因素對拋光過程的影響

　　超精密雙面拋光加工技術(shù)需要的設(shè)備包括雙面拋光機、拋光終點檢測和工藝控制設(shè)備、后清洗設(shè)備、廢物處理及檢測設(shè)備等;采用的消耗品包括拋光墊及拋光液。完整的超精密雙面拋光工藝主要包含拋光、后清洗和測量測試等幾個部分。因此，超精密雙面拋光系統(tǒng)包括了很多變量:晶片自身變量、拋光液變量、拋光墊變量和拋光機過程變量等，超精密雙面拋光工藝的三大關(guān)鍵參數(shù)是拋光機、拋光墊和拋光液，其相互匹配性及各自性能影響了能獲得的工件表面質(zhì)量。

　　如圖所示為其具體內(nèi)容。

　　為了能更好地控制拋光過程，我們需要細致地了解超精密雙面拋光的每一個工藝參數(shù)，了解它們在此過程單獨起到的作用以及它們之間的聯(lián)系起來的交互作用。由于影響加工過程中，很多工藝因素都對機械作用和化學(xué)作用產(chǎn)生影響，所以在進行超精密雙面拋光時要全面綜合地考慮上述工藝因素，對其進行合理的優(yōu)化。

　　深圳海德研磨提供超精密雙面拋光加工所需要的整套設(shè)備及耗材，具體有：雙面拋光機、研磨液、拋光液、拋光皮、拋光布等等。承接雙面研磨拋光加工業(yè)務(wù)，了解更多關(guān)于雙面拋光加工的問題請關(guān)注：http://www.szlapping.com