平面拋光機的拋光軌跡對拋光性能的影響

　　拋光精度，即拋光性能，是平面拋光機采購商及供貨商共同關(guān)注的焦點。拋光軌跡是影響拋光性能根本的影響因素。

　　平面拋光機的拋光軌跡根據(jù)加工工件及加工盤的不同相對運動，有不定偏心研磨軌跡、定偏心研磨軌跡、行星式研磨軌跡、直線式研磨軌跡、方形分形研磨軌跡、搖擺式研磨軌跡等等。

　　一、不定偏心式研磨軌跡，其均勻性明顯好于定偏心式軌跡，有利于工件面形精度的提高。適合于直徑大于200mm的大尺寸工件的加工。量產(chǎn)型鏡面拋光機的研磨拋光軌跡就是這種類型。

　　二、定偏心研磨軌跡的工件材料去除均勻性較差，越靠近工件中心材料去除率越低。一般只用于加工直徑不大于200mm的小尺寸工件。其中高精密研磨拋光機就是這種。

　　三、　行星式平面研磨運動軌跡最常見用于雙面研磨機，當改變研磨盤轉(zhuǎn)速和太陽轉(zhuǎn)速之比時，工作效率及材料去除率會發(fā)生變化。

　　四、　直線式研磨使用的不是拋光盤，而是具有柔性的砂帶，工件做單純的回轉(zhuǎn)運動。平面研磨拋光機自修整機構(gòu)的刀具在研磨盤上的軌跡也就是這種。此種運動形式簡單，如將研磨帶加長可以形成批量生產(chǎn)，生產(chǎn)效率高。

　　五、搖擺式研磨軌跡比定偏心雙軸式或直線式研磨更均勻。軌跡在加工面中心呈幾種的趨勢，是工件加工面中心處有凹陷的現(xiàn)象。

　　綜上所述是幾種不同的運動軌跡對拋光性能的影響。海德建議各位廠家在進行平面拋光加工中，一定要選擇合適的動動軌跡。海德一直定位于研磨整體解決方案供應(yīng)商角色。公司緊跟市場需求，可向客戶提供平面研磨拋光機，雙面研磨拋光機等系列產(chǎn)品及耗材。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于超硬材料精密工具加工以及半導(dǎo)體硅晶片、光學(xué)玻璃、陶瓷、液晶、手表玻璃、寶石、各種法蘭、閥片、密封件、刀片等金屬及非金屬的零部件;同時海德?lián)碛袕姶蟮募夹g(shù)團隊，可根據(jù)客戶要求設(shè)計及制作高自動化的非標設(shè)備以滿足生產(chǎn)需求。海德服務(wù)熱線：0755-89813868

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